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池田 佳隆
JAERI-Research 99-061, p.46 - 0, 1999/12
JAERI-Research-99-061.pdf:1.76MB
JT-60Uにおいては、高周波加熱装置の周波数を110GHzとすることで、電子サイクロトロン(EC)波による局所加熱/電流駆動が可能である。本研究では、その局所加熱/電流駆動システムの入射系の設計検討を行い、110GHzのEC波を局所的に吸収させるためのプラズマ入射条件を明らかにした。またray-traceとFokker-Plant ckの数値計算コードにより、中心電子温度が8keVの高
プラズマにおいて、1MW入射時に、幅10cm程度にブートストラップ電流と同程度の電流密度の局所電流駆動が可能であることを示した。これらの結果をもとに、JT-60Uにおいて、プラズマ中心部から周辺部までの加熱/電流分布制御が可能なRFビームの入射系の基本設計を行った。